2020年 04月 16日 星期四
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中国芯片技术有突破光刻机技术还有差距

来源:未知     作者:威廉希尔     发布时间:2020-04-16 16:27         

  时代,随着科技的不断发展人们研究的领域早就已经从宏观走到了微观,而也正因为现在电子时代的进步,芯片技术也就成为了在技术中需要突破的重点。而我国其实在半导体芯片的制造上一直都

  2019年11月有报道,荷兰半导体设备供应商阿斯麦尔(ASML)停止向中芯国际供应极紫外光(EUV)光刻机。该报道援引多位ASML供应商关系人士指出,ASML是为了避免因供应最先进的设备给中国,担心刺激到美国,因此决定暂时中止原定于今年交货的EUV极紫外光刻机的交付。

  极紫外线光刻机是芯片生产工具,是生产大规模集成电的核心设备,对芯片工艺有着决定性的影响。小于5纳米的芯片晶圆,只能用EUV光刻机生产。

  阿斯麦尔掌握掌控了90%的高端光刻机高端市场,目前,最新的两代高端光刻机(即浸入式(Immersion)和极紫外线式(EUV)光刻机)的核心技术全部由阿斯麦尔掌握。

  在现在的芯片发展领域,最受大家关注的就是光刻机,然而我国还没有能够自主研发光刻机的能力,现在的很多芯片制造,虽然说国内有公司但是芯片的光刻机还是从国外进口的。

  这样的发展方式也不禁让人们都非常担心,如果国外想要在这方面对我们有所,只要不出口就可以完全的切断这一领域,因此如何能够实现我国自己的生产就是一个重中之重的问题。

  我国也下定决心要打造属于自己的光刻机,在这方面的投入也常多的,这样的投资已经上达万亿元。

  在现阶段,我国的芯片其实大多数都来自于外国进口,而本土的就只能达到10%左右,通过紫光技术现在我国的芯片量产能够提升至17.8%,这样的提升常不容易的,而如果按照这样的上升速度的话,我们是有更大的一些满足需要的可能性的。

  现在由于在各方面进展进行着研制,也希望我国在2025年可以实现芯片的70%自给自足,这样的话就能够摆脱国家对我国的芯片控制。

  虽然,我们国家掌握了这一类芯片的关键技术,但是却并不能够制造出有这样精度的光刻机,想要真正的成功仍然还有着非常长的一段需要走。

  光刻机制造到底难在哪里?光刻机的技术难度在于“技术”,一台的光刻机关键设备来自于发达国家,美国的光栅、的镜头、的轴承、法国的阀件等,这些零件对中国是禁运的。所以,ASML曾说“即便给你们全套图纸,你们也造不出来”。

  光刻机只有荷兰的ASML能够生产,超过90%的零件向外采购,整个设备的不同部位同时获得了全世界最先进的技术,因此可以在日新月异的芯片制造业取得竞争优势。

  最顶尖的光刻机集合了很多国家的技术支持,是多个国家共同努力的结果,为ASML提供了核心光学配件支持,美国为ASML提供光源支持及计量设备的支持,ASML要做的就是做到精确控制。

  比如,7nm EUV光刻机包含了5万多个零件,13个系统,误差分散到13个分系统中,的蔡司光学设备不精准,美国的Cymer光源不精,都可能造成很大的误差。

  与、、美国等一些国家相比,我国的芯片制造以及超级精密的机械制造方面不具备什么优势,没有超级精密的仪器,自然就很难造出的设备,无法造成的芯片。最关键的是,这些超级精密的仪器根据《瓦森纳协定》对中国是禁运的。

  《瓦森纳协定》有33个国,中国不再其列,主要目的是关键技术和远见流失到国之外,在半导体领域,受限于该协定,在芯片制造、封装、设计等方面,我国一直无法获得国外最新的科技。

  因此,中国要突破这一瓶颈,只能是自力更生,创造出具有自主知识产权的高端科技技术,相信在不久的将来中国一定能办到!返回搜狐,查看更多

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